專利侵權鑑定

專利侵權鑑定

專利侵權鑑定

依據「專利侵權判斷要點」,比對分析「被控侵權物」「系爭專利」,製作「專利侵權比對分析報告」(含技術分析簡表)

※適用時機:

  1. 認為競爭對手侵害「自己的專利權」
  2. 有侵害「他人的專利權」疑慮時 / 列為專利侵權被

發明、新型專利侵權判斷

專利侵權之判斷,應將「被控侵權對象」(被控侵權物或方法)與「系爭專利之請求項進行比對,不得將被控侵權對象與系爭專利之物或方法直接進行比對。若被控侵權對象本身亦有專利權,亦不得直接將雙方專利之物或方法進行比對,或將雙方之專利請求項進行比對。
專利權人主張被控侵權對象構成侵權時,應先後判斷是否構成文義侵權均等侵權

專利侵權判斷流程圖

註:均等論之限制事項,主要包括「全要件原則」、「申請歷史禁反言」、「先前技術阻卻」及「貢獻原則」。


設計專利侵權判斷

設計專利侵權之判斷,係就「系爭專利之圖式「被控侵權對象對應該圖式之設計內容」進行整體比對,據以判斷被控侵權對象與設計專利是否相同或近似。判斷時應就「被控侵權對象」「系爭專利之設計專利權範圍進行比對,不得直接比對被控侵權對象與系爭專利之物品。

專利侵權判斷流程圖

 
註:流程中「物品是否相同或近似」、「外觀是否相同或近似」及「是否適用申請歷史禁反言或先前技藝阻卻」之判斷並無先後順序關係。

依據「專利侵權判斷要點」,比對分析「被控侵權物」「系爭專利」,製作「專利侵權比對分析報告」(含技術分析簡表)

※適用時機:

  1. 認為競爭對手侵害「自己的專利權」
  2. 有侵害「他人的專利權」疑慮時 / 列為專利侵權被

其他國家的相關資訊,歡迎直接

聯絡我們